Roma, 15 mag. (Adnkronos) - Accordo strategico tra Enel e Sharp per lo sviluppo del fotovoltaico. I due partner analizzeranno la costruzione in Italia di un impianto industriale per la produzione di pannelli basati sulla tecnologia Sharp a film sottile a tripla giunzione. Sharp affidera' a Enel.si la installazione di nuovi campi fotovoltaici in Italia per un totale di 161 MW. L'accordo e' stato firmato dal direttore della divisione mercato di Enel, Francesco Starace, ed il corporate senior executive vice president, Toshishige Hamano, alla presenza dell'ad e direttore generale di Enel Fulvio Conti, e del Chairman & Ceo di Sharp Corporation, Katsuhiko Machida.
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